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专利摘要显示,本发明公开了一种新型的耐辐照光纤及其制备方法,通过用 VAD 法制作纤芯,用 POVD 工艺完成掺氟内包层及纯 SiO2 外包层,最后经过拉丝工艺制得新型的耐辐照光纤。新型的耐辐照光纤包括由内到外依次设置的掺氯纤芯、掺氟内包层和纯 SiO2 外包层,掺氯纤芯和掺氟内包层在界面粘度匹配以消除或减小界面的不规整性从而减小辐致损耗。通过上述方式,本发明新型的耐辐照光纤及其制备方法,通过掺氯纤芯、掺氟包层的界面粘度匹配,来消除或减小界面的不规整性,从而减少“色心”的形成,使光纤的辐致损耗能显著减小,其耐辐射性能显著提高。
本文源自金融界

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