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集成电路制造全流程
集成电路是用半导体材料制成的电路的大型集合,集成电路按照产品种类又主要分为四大类:微处理器,存储器,逻辑器件,模拟器件。通常我们统称他们为芯片。
芯片的制造过程可以分为前道工艺和后道工艺。前道工艺包括光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入、清洗、化学机械抛光、量测等工艺。后道工艺包括减薄、划片、装片、键合等封装工艺以及终端测试等。

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在晶圆制造厂资本开支中,20%-30%用于厂房建设,70%-80%用于设备投资。设备投资中,芯片制造和封装测试投资额占比约80%、20%。
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